PCE-6V 小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件(jiàn)編程技術,采用氣體作爲清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時(shí)外接一台真空泵,清洗腔内的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時(shí)間内*清洗掉有機污染物,清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。另外,其樣品台可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外,其可在特定條件(jiàn)下根據需要改變某些材料表面的性能。
PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使(shǐ)用空氣、氧氣、氩氣等離子去除納米級(jí)有機物污染。在射頻(pín)電源的作用下,去除速率大每分鍾10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處(chù)理,對生長具有顯著的作用 。
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機,等離子腔體爲 8.5 “dia x 12““L的石英腔體,采用的射頻(pín)電源功率0 - 100W連續可調節。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氩氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時(shí)也可改變物體表面的性質(如親水和疏水性等)。對于基片的清洗以及薄膜處(chù)理此款設備是較爲理想的實驗幫手。
PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機,等離子腔體爲 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體,采用的射頻(pín)電源頻(pín)率爲13.56MH,功率0 -500W連續可調節。此款設備功率高,可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應用,對于基片的清洗以及薄膜處(chù)理此款設備是較爲理想的實驗幫手。
GSL-1100X-PJF 等離子表面處(chù)理儀是一款緊湊的大氣離子表面處(chù)理噴射系統,主要由射頻(pín)發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件(jiàn)下,迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元(yuán)件(jiàn)、塑料等廣泛的材料。 爲了獲得高質量的外延薄膜或者光學塗層,預*行表面處(chù)理可以得到顯著的效果。